光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料，其中KPR胶的一种合成路线如下:(1)①A→B、C→D的反应类型依次为 ...

问题详情：

光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料，其中KPR胶的一种合成路线如下:

(1)①A→B、C→D的反应类型依次为           、          .

②C中的官能团名称是          和          .

(2)由E为起始原料制备F的一种流程为:

则X转化为Y所需的试剂和条件依次是           、          。

(3) G的结构简式为                 .

(4)写出反应H+H2O→I+F的化学方程式:                        (有机物用结构简式表示) 。

【回答】

（1）①加成反应   取代反应

②碳碳双键  羧基

（2）催化剂 （Cu或Ag）  加热（△）

（3）CH3COOCH=CH2

（4） + H2O -   + n CH3COOH

知识点：烃的衍生物单元测试

题型：推断题