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在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方...

问题详情:

在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向里,有一定的宽度的匀强磁场区域,如图所示.已知离子P+在磁场中转过θ=30°后从磁场右边界*出.在电场和磁场中运动时,离子P+和P3+(  )

在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方...

A.在电场中的加速度之比为1:1

B.在磁场中运动的半径之比为在半导体离子注入工艺中,初速度可忽略的离子P+和P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入磁感应强度大小为B、方... 第2张:1

C.在磁场中转过的角度之比为1:2

D.离开电场区域时的动能之比为1:3

【回答】

BCD

知识点:磁场对运动电荷的作用力

题型:多项选择

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