光刻技术造句怎么写

因此目前电子束光刻设备主要的用途是用于刻制掩膜板，许多人甚至认为电子束光刻技术的产出量永远也无法满足芯片量产的需求。

因为193 nm液浸式光刻技术与双重成像的结合将迫使芯片产商对芯片设计准则设置更多的限制。

罗杰斯博士介绍说，他们先使用标准光刻技术将薄型太阳能电池印制在半导体晶片上，然后再用软橡皮图章将硅电池转而印制到另一种物质表面上。

二百纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用，而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之

应用于立体光刻技术的耐久*，白*，防水和低收缩的树脂。

针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题，提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术。

光刻技术应用到集成电路制造中，就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。

作为一种新型的微图形复制技术，软光刻技术用**模替代传统光刻技术中使用的硬模来产生微形状和微结构。

纳米压印光刻技术具有效率高、失真率低、易于实现大面积图形转移等特点，成为下一代光刻技术的研究热点。

这款产品将使用Intel第三代HKMG工艺，第五代硅应变技术，另外与32nm类似，22nm制程仍将继续使用193nm液浸式光刻技术。

在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中，投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出，因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。

利用电子束光刻技术制作了基于钛**纳米线的纳米器件