气相沉积造句怎么写

本文评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜的进展情况

利用热丝化学气相沉积，在预沉积无定形碳的硅镜面基底及表面研磨预处理的铜基底上，实现了金刚石薄膜的沉积，并由此讨论了金刚石的成核机理。

热梯度化学气相沉积工艺中避免了等温沉积工艺中预制体表面孔隙过早堵塞的现象，适合制备轴对称的环形、管型件。

课堂讲授和实验课重点介绍了基本制程技术，如扩散、氧化、光刻、化学气相沉积等。

采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜。

近年来，化学气相沉积(CVD)法逐渐应用于车针后续处理过程之中，增强了车针的耐磨*和切削效率。

以WF6和H2为原料，粉末冶金钨板为基体，采用热丝开管气流化学气相沉积试验装置，成功地制备出可变形钨锭。

为了满足制备较厚低摩擦系数类金刚石薄膜（DLC）耐磨镀层的实际需求，对在等离子增强化学气相沉积的类金刚石薄膜（W-DLC）中掺钨进行了系统研究。

苏州鼎利涂层有限公司采用荷兰技术，*从事物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition)技术的研发、设计、并提供优质的PVD涂层服务。

溅*靶材、物理气相沉积、高温合金。

为快速沉积高品质金刚石膜，建立了热*极等离子体化学气相沉积方法。

本发明描述使用定向反应物气流和相对于所述气流移动的基板的次大气压化学气相沉积。

用物理气相沉积法在水平系统中生长有机半导体并五苯晶体薄膜。

涂层的化学气相沉积(CVD)和表面层改*的物理气相沉积(PVD)涂层的离子注入，所有三个正在受到考验，并部分使用。

本文介绍了化学气相沉积制膜技术在国民经济各个领域中的应用及其发展趋势。

应用二维准平面电路模型对等离子体增强化学气相沉积（PECVD）大面积平行板电极间电势差分布均匀*进行了数值研究。

以*苯为碳源，二茂铁为催化剂，噻吩为生长促进剂，通过化学气相沉积方法得到了多分叉结构的炭。

采用*频-直流等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上沉积了类金刚石薄膜

所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的.

利用微波等离子体化学气相沉积方法，以H 2、CH4和八*基环四硅氧*(D4)为原料，在硬质合金基体上沉积了金刚石涂层。

本系统中的数字量由PLC控制，数字量主要控制真空系统烧结炉和化学气相沉积炉中各通气管路中的开关量

本文系统研究了石英钟罩式微波等离子体辅助化学气相沉积装置对沉积金刚石薄膜的影响。

探讨如何用电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)设备制备非晶态氮化硅介质膜和光学膜。

利用热分解五羰基铁气相沉积的方法成功地制备了微米级铁纤维。

采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术成功地制备了不同硅*浓度和辉光功率条件下的微晶硅电池。