- 问题详情:三*化氮(NF3)是无*无味气体,它可由氨气和*气反应制得:4NH3+3F2===NF3+3NH4F。下列说法正确的是()A、NH4F的还原*比NH3强 B、NF3的氧化*比F2强C、该反应中被氧化和被还原物质的物质的量之比为4∶3D、该反应中得到1molNF3时,转移6mol...
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- 问题详情:生产液晶显示器过程中使用的化学清洗剂NF3是一种温室气体,其存储能量的能力是CO2的12000-20000倍,在大气中的寿命可长达740年之久,以下是几种化学键的键能:化学键键能941.7154.8283.0下列说法中正确的是A.反应中为吸热反应B. 过程放出能量C. 反应中,N2与F2的总能量小于...
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- 问题详情:根据价层电子对互斥理论及原子轨道的杂化理论判断NF3分子的空间构型和中心原子的杂化方式为()A.直线形sp杂化 B.三角形 sp2杂化C.三角锥形 sp2杂化 ...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是无*无味的气体,它可由氨和*直接反应得到:4NH3+3F2=NF3+3NH4F,下列有关NF3的叙述正确的是 A.NF3是离子化合物 B.NF3中的N呈+3价C.NF3的氧化*比F2强 D.NF...
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- 问题详情:科学家发现,在液晶电视等制造过程中使的三*化氮(NF3)的温室效应是二氧化碳的1.7万倍.NF3中*元素为﹣1价,则氮元素的化合价是( )A.﹣3 B.0 C.+1 D.+3【回答】【考点】有关元素化合价的计算.【专题】化学式的计算.【分析】根据在化合物中正负化合价代数和为零计算...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是一种无*无味的气体,它是氨(NH3)和*气(F2)在一定条件下直接反应得到的。4NH3+3F2==NF3+3NH4F。下列关于三*化氮的叙述,正确的是( )A.NF3中的N呈-3价B.电负*由大到小的顺序:H>N>FC.NF3可能是一种极*分子D.NF3和NH4F都分子晶体【回答】【*】C【解析】NF3中F的化...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,无*,无臭,在潮湿空气中泄露会产生白雾,红棕*气体等现象,反应方程式为:aNF3+bH2O=c +dHNO3+eHF。下列说法正确的是( )A.反应方程式横线处的物质为NO,且a=3,b=5,c=2,d=1,e=9B.反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为2:1C.若...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )3是氧化剂,H2O是还原剂 B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1C.若生成0.2molHNO3,则转移0.2mol...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是一种新型电子材料,它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应,其反应的产物有:HF、NO和HNO3,请根据要求回答下列问题:(1)反应过程中,被氧化与被还原的元素的物质的量之比为______________。(2)写出该反应的化学方程式,并标出电子转移的方向和数目:______...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是一种无*、无味的气体,它是微电子工业技术的关键原料之一,三*化氮在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应,其反应的产物有HF、NO和HNO3,请根据要求回答下列问题:(1)反应过程中,被氧化与被还原的元素原子的物质的量之比为________。(2)写出该反应的化学...
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- 问题详情:下列说法中正确的是( )A.BF3、NF3分子的价层电子对互斥模型均为平面正三角形B.H—Cl的键能为431.8kJ·mol-1,H—I的键能为298.7kJ·mol-1,这可以说明HCl分子比HI分子稳定C.可燃*是**的结晶水合物,**可与水形成*键D.因为N-H键能比P-H大,所以NH3沸点比PH3高【回答...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子体,NF3能与水发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列说法中正确的是()A.NF3只作氧化剂B.氧化剂与还原剂的物质的量之比为3:5C.每生成0.2molHNO3,转移电子的物质的量为0.4molD.HF为还原产物【回答】*:C解析:NF3在反应中N的化合价...
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- 问题详情:科学家发现,在液晶电视等制造过程中使用的三*化氮(NF3)的温室效应是二氧化碳的1.7万倍。NF3中*元素为-1价,则氮元素的化合价是【 】 A.-3 B.0 C.+1 D.+...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是A.NF3既是氧化剂,又是还原剂B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1C.若生成0.2molHNO3,则转移0.2mol电子D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生无*气体...
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- 问题详情:在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂,工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3,其电解原理如图。下列说法不正确的是( )A.a电极为电解池的阳极B.阳极的电极反应式:NH4++3F--6e—===NF3+4H+C.电解过程中可能还会生成少量氧化*极强的气体单质,该气体的分子式...
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- 问题详情:纯三*化氮(NF3)在集成电路、大型屏幕液晶显示屏(TFT-LCD)的生产中,作为清洗剂之用。三*化氮在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应,其反应的产物有:HF、NO和HNO3,请根据要求回答下列问题:(1)NF3的电子式为 。(2)写出该反应的化学方程式。 ...
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- 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无*、无臭,在潮湿的空气中能发生下列反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF,下列有关说法正确的是A.反应中NF3是氧化剂,H2O是还原剂B.反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为2∶1C.若反应中生成0.2molHNO3,则反应共转移0.2m...
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- 问题详情:在铜的催化作用下,氨气和*气反应:4NH3+3F2NF3+3NH4F。下列有关说法不正确的是( )A.NF3分子中每个原子均为8电子稳定结构B.NF3是非极*分子C.NF3既是氧化产物,又是还原产物D.NH4F中既含有离子键,又含有共价键【回答】B知识点:化学键题型:选择题...
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