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- 問題詳情：製備硅單質時，主要化學反應如下：（1）SiO2+2CSi+2CO↑（2）Si+2Cl2SiCl4（3）SiCl4+2H2Si+4HCl下列對上述三個反應的敘述中，不正確的是( )A．（1）（3）爲置換反應 B．（1）（2）（3）均爲氧化還原反應C．（2）爲化合反應 ...
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- 問題詳情：下列反應中，能*SiO2是**氧化物的是（ ）A．SiO2+2C====Si+2CO↑ B．SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2OC．SiO2+4HF==SiF4↑+2H2O D．SiO2+CaCO3==CaSiO3+CO2↑【回答】B知識點：硅鹽工業簡介題型：選擇題...
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- 問題詳情：電子技術離不開高純硅，硅廣泛應用於電子工業，工業上制硅的基本原理是：SiO2+2CSi+2CO↑，該反應中還原劑是 ________，該反應中氧化劑是 ________ 【回答】.【*】C；SiO2 【解析】【解答】解：在SiO2+2CSi+2CO↑，碳在該反應中得到氧，是還原劑，二氧化硅在該反應中失去...
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- 問題詳情：高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理爲：①SiO2+2CSi+2CO②Si+3HClHSiCl3+H2③HSiCl3+H2Si+3X反應①製得粗硅，透過反應②③進一步得到高純硅；三*硅*（HSiCl3）的沸點是31.8℃．下列有關說法不正確的是（）A．反應③中X的化學式爲HCl B．...
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- 問題詳情：已知高溫下能發生如下反應SiO2+2C==Si+2CO↑，Si+C==SiC,現有石英砂和碳粉的混合物lmol,在高溫電爐中隔絕空氣充分反應完全後，冷卻得到殘留固體。若石英砂與混合物的物質的量之比爲x（0<x<1）,試討論x的取值範圍，殘留固體的成分和物質的量,並將結果填入下表：編號①②③④...
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- 問題詳情：下列敘述正確的是（ ）A．由反應SiO2+2CSi+2CO↑，可得出C的非金屬*強於SiB．由分子組成的物質中一定存在共價鍵C．對於平衡2HI（g）I2(g)+H2(g)，壓縮容器體積，平衡不移動，氣體的顏*不變D．水的電離是吸熱過程，升高溫度，水的離子積增大、pH減小【回答】D知識點：化學平衡題型：選擇題...
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- 問題詳情：製備單質硅的主要化學反應如下：①SiO2+2CSi+2CO↑ ②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2===Si+4HCl，下列對上述三個反應的敘述中不正確的是A．①②③均爲氧化還原反應 B．①③爲置換反應C．③中是氧化劑 D．三個反應的反應物中的硅元...
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- 問題詳情：製備粗硅的反應爲：SiO2+2CSi+2CO↑，其中氧化劑與還原劑的物質的量之比爲（ ） A．1:3 B．3:1 C．1:2 D．2:1【回答】C知識點：氧化還原反應題型：選擇題...
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