薄膜沉積造句怎麼寫

利用奈米硬度計研究了薄膜沉積過程中基體負偏壓對薄膜硬度和**的影響。

衍*光學元件的製作技術主要包括鐳射或電子束直寫、反應離子刻蝕、離子束銑及薄膜沉積。

利用熱脈衝技術研究了不同溼度下電暈充電的聚醯亞*薄膜沉積電荷平均深度向背電極的遷移規律。

用於金剛石薄膜氣相化學沉積，作為籽晶，可使薄膜沉積的速度加快，結晶的定向*強，生長的溫度低等優點。

報告提供了2006年薄膜沉積市場預測資訊.

綜述了二元光學元件的常用製作工藝技術，包括臺階刻蝕法、薄膜沉積法、直接寫入法、準分子鐳射加工法和灰階掩模法。