關於3NF35H2O2NO的百科

• 三*化氮（NF3）是微電子工業中優良的電漿刻蝕氣體，它在潮溼的環境中能發生反應：3NF3+5H2O=2NO+...

• 問題詳情：三*化氮（NF3）是微電子工業中優良的電漿刻蝕氣體，它在潮溼的環境中能發生反應：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的說法正確的是（  ）3是氧化劑，H2O是還原劑               B.還原劑與氧化劑的物質的量之比為2:1C.若生成0.2molHNO3，則轉移0.2mol...
• 2020-04-264514