關於3NF35H2O2NOHNO的百科

• 三*化氮是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮溼的環境中能發生如下反應：3NF3+5H2O=2NO+HNO...

• 問題詳情：三*化氮是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮溼的環境中能發生如下反應：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的說法正確的是3是氧化劑，H2O是還原劑  3在潮溼空氣中泄漏會看到紅棕*氣體C.每消耗0.2mol氧化劑，可收集到5.418L氣體D.若生成1molHNO3，則轉移NA...
• 2021-03-086651